简介
Centorr Vacuum Industries 森特真空工业炉公司的高温、低压 CVD炉从气相原料通过高达2200°C高温反应生产高性能材料。
超高温石墨净化(graphite purification)及石墨化 (graphitization) 温度可高达2900°C。可以在惰性气体真空或氯气(Chlorine gas)环境下工作。
CVD/CVI炉系统完全控制系统控制包括原料气、反应环境、废气收集,安全高效。
特点
- 冷壁真空炉设计,不锈钢,具有冷水套隔层。
- 装料、卸料方便。
- 石墨热阻热区,适用于 CVD 工艺的料盘。
- 可以选用感应加热,用于碳CVI应用或超高温要求。
- 立式顶部/底部装载设计,也可以根据需要卧式矩形设计
- 感应加热工作温度:最高2900°C。对于较低工作温度,采用电阻加热。
- 真空泵系统包括机械泵/罗兹泵,可选液环泵或干泵系统,与反馈回路控制喉阀一起使用,提供稳定恒定压力。特别过滤器减少磨损。
- 系统控制:PLC工业可编程控制器或者使用CVI定制的Intellution™ FIX32 HMI 软件系统的PC控制,具有数据采集及远程控制功能。
- 惰性气体及反应气系统采用电子质流控制,保证 CVD应用准确、灵活地控制。多喷嘴喷淋系统可以根据装载量调整气流量与进气模式。
- 抗腐蚀的气压计:提供准确的压力值,不受腐蚀气体影响。
型号规格
标准型号* | 8820 | 1824 | 2436 | 161636 | 84120 |
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有效均温热区 W x H x L or Dia. x H in (mm) | 8 x 8 x 20 (200 x 200 x 500) | 18 x 24 (460 x 610) | 24 x 36 (610 x 914) | 16 x 16 x 36 (400 x 400 x 914) | 84 x 120 (2133 x 3050) |
工作体积 Ft3 (升) | 0.75 (21) | 3.5 (100) | 9.5 (270) | 5.3 (150) | 385 (10,900) |
功率 KVA | 45 | 150 | 450 | 275 | 750 |
冷却水要求 gpm (升) | 7 (26) | 30 (114) | 65 (246) | 43 (163) | 125 (473) |
化学气相沉积 CVD / 化学气相渗透 CVI / 碳碳复合石墨 CC
- 生产一致性高: 温度均温性以及工艺每一步的自动温度控制。
- 运行成本低: 全自动运行,快速升温、快速冷却。
- 灵活行高: 全自动程序控制,根据工件材料及尺寸,设定相应工艺及气氛控制,炉系统完全自动化运行,适用性广,生产效率高。
- 方便维护,成本低: 工业化生产设计,各组成部分均畅通方便易达,维护方便。
选项
Optional Features
- 顶部装载:电动顶盖提起模块;底部装载:炉膛升降装置。
- 废气收集包括洗涤器或者液环泵/干泵。
- 惰性气体及反应气管理与分配系统:MTS, BCl3, H2, CH4,C3H8。
- 炉膛内具有石墨工作釜,涂层反应工艺过程在石墨工作釜内进行,工作釜内与炉膛具有泵压力差。
- 可配置工件翻转装置、喷气枪。
- 真空泵油过滤系统、真空多性气体排气管路。
应用
- 化学气相沉积CVD(Chemical Vapor Deposition)
- 化学气相渗透CVI(Chemical Vapor Infiltration)
- 石墨纯化(Graphite Purification)
- 石墨化(Graphitization)
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