简介
Centorr Vacuum Industries 森特真空工业炉公司的高温、低压 CVD炉从气相原料通过高达2200°C高温反应生产高性能材料。
超高温石墨净化(graphite purification)及石墨化 (graphitization) 温度可高达2900°C。可以在惰性气体真空或氯气（Chlorine gas）环境下工作。
CVD/CVI炉系统完全控制系统控制包括原料气、反应环境、废气收集，安全高效。
特点
- 冷壁真空炉设计，不锈钢，具有冷水套隔层。
- 装料、卸料方便。
- 石墨热阻热区，适用于 CVD 工艺的料盘。
- 可以选用感应加热，用于碳CVI应用或超高温要求。
- 立式顶部／底部装载设计，也可以根据需要卧式矩形设计
- 感应加热工作温度：最高2900°C。对于较低工作温度，采用电阻加热。
- 真空泵系统包括机械泵／罗兹泵，可选液环泵或干泵系统，与反馈回路控制喉阀一起使用，提供稳定恒定压力。特别过滤器减少磨损。
- 系统控制：PLC工业可编程控制器或者使用CVI定制的Intellution™ FIX32 HMI 软件系统的PC控制，具有数据采集及远程控制功能。
- 惰性气体及反应气系统采用电子质流控制，保证 CVD应用准确、灵活地控制。多喷嘴喷淋系统可以根据装载量调整气流量与进气模式。
- 抗腐蚀的气压计：提供准确的压力值，不受腐蚀气体影响。
型号规格
| 标准型号* | 8820 | 1824 | 2436 | 161636 | 84120 |
|---|---|---|---|---|---|
| 有效均温热区 W x H x L or Dia. x H in (mm) | 8 x 8 x 20 (200 x 200 x 500) | 18 x 24 (460 x 610) | 24 x 36 (610 x 914) | 16 x 16 x 36 (400 x 400 x 914) | 84 x 120 (2133 x 3050) |
| 工作体积 Ft3 (升) | 0.75 (21) | 3.5 (100) | 9.5 (270) | 5.3 (150) | 385 (10,900) |
| 功率 KVA | 45 | 150 | 450 | 275 | 750 |
| 冷却水要求 gpm (升) | 7 (26) | 30 (114) | 65 (246) | 43 (163) | 125 (473) |
化学气相沉积 CVD / 化学气相渗透 CVI / 碳碳复合石墨 CC
- 生产一致性高： 温度均温性以及工艺每一步的自动温度控制。
- 运行成本低： 全自动运行，快速升温、快速冷却。
- 灵活行高： 全自动程序控制，根据工件材料及尺寸，设定相应工艺及气氛控制，炉系统完全自动化运行，适用性广，生产效率高。
- 方便维护，成本低： 工业化生产设计，各组成部分均畅通方便易达，维护方便。
选项
Optional Features
- 顶部装载：电动顶盖提起模块；底部装载：炉膛升降装置。
- 废气收集包括洗涤器或者液环泵／干泵。
- 惰性气体及反应气管理与分配系统：MTS, BCl3, H2, CH4,C3H8。
- 炉膛内具有石墨工作釜，涂层反应工艺过程在石墨工作釜内进行，工作釜内与炉膛具有泵压力差。
- 可配置工件翻转装置、喷气枪。
- 真空泵油过滤系统、真空多性气体排气管路。
应用
- 化学气相沉积CVD（Chemical Vapor Deposition）
- 化学气相渗透CVI（Chemical Vapor Infiltration）
- 石墨纯化（Graphite Purification）
- 石墨化（Graphitization）
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