简介

        Centorr Vacuum Industries 森特真空工业炉公司的高温、低压 CVD炉从气相原料通过高达2200°C高温反应生产高性能材料。

        超高温石墨净化(graphite purification)及石墨化 (graphitization) 温度可高达2900°C。可以在惰性气体真空或氯气(Chlorine gas)环境下工作。

        CVD/CVI炉系统完全控制系统控制包括原料气、反应环境、废气收集,安全高效。

特点

  • 冷壁真空炉设计,不锈钢,具有冷水套隔层。
  • 装料、卸料方便。
  • 石墨热阻热区,适用于 CVD 工艺的料盘。
  • 可以选用感应加热,用于碳CVI应用或超高温要求。
  • 立式顶部/底部装载设计,也可以根据需要卧式矩形设计
  • 感应加热工作温度:最高2900°C。对于较低工作温度,采用电阻加热。
  • 真空泵系统包括机械泵/罗兹泵,可选液环泵或干泵系统,与反馈回路控制喉阀一起使用,提供稳定恒定压力。特别过滤器减少磨损。
  • 系统控制:PLC工业可编程控制器或者使用CVI定制的Intellution™ FIX32 HMI 软件系统的PC控制,具有数据采集及远程控制功能。
  • 惰性气体及反应气系统采用电子质流控制,保证 CVD应用准确、灵活地控制。多喷嘴喷淋系统可以根据装载量调整气流量与进气模式。
  • 抗腐蚀的气压计:提供准确的压力值,不受腐蚀气体影响。

型号规格

标准型号*88201824243616163684120
有效均温热区
W x H x L or Dia. x H
in (mm)
8 x 8 x 20
(200 x 200 x 500)
18 x 24
(460 x 610)
24 x 36
(610 x 914)
16 x 16 x 36
(400 x 400 x 914)
84 x 120
(2133 x 3050)
工作体积 Ft3 (升)0.75
(21)
3.5
(100)
9.5
(270)
5.3
(150)
385
(10,900)
功率 KVA45 150450275750
冷却水要求
gpm (升)
7
(26)
30
(114)
65
(246)
43
(163)
125
(473)

化学气相沉积 CVD  / 化学气相渗透  CVI  /  碳碳复合石墨 CC

  • 生产一致性高: 温度均温性以及工艺每一步的自动温度控制。
  • 运行成本低: 全自动运行,快速升温、快速冷却。
  • 灵活行高: 全自动程序控制,根据工件材料及尺寸,设定相应工艺及气氛控制,炉系统完全自动化运行,适用性广,生产效率高。
  • 方便维护,成本低: 工业化生产设计,各组成部分均畅通方便易达,维护方便。

选项

Optional Features

  • 顶部装载:电动顶盖提起模块;底部装载:炉膛升降装置。
  • 废气收集包括洗涤器或者液环泵/干泵。
  • 惰性气体及反应气管理与分配系统:MTS, BCl3, H2, CH4,C3H8
  • 炉膛内具有石墨工作釜,涂层反应工艺过程在石墨工作釜内进行,工作釜内与炉膛具有泵压力差。
  • 可配置工件翻转装置、喷气枪。
  • 真空泵油过滤系统、真空多性气体排气管路。

应用

  • 化学气相沉积CVD(Chemical Vapor Deposition)
  • 化学气相渗透CVI(Chemical Vapor Infiltration)
  • 石墨纯化(Graphite Purification)
  • 石墨化(Graphitization)